| Desenvolvimento dum reactor fotocatalítico para despoluição de águas baseado na tecnologia de filmes finos (CC-CVD) |
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| Quinta-feira, 02 Junho 2005 | por
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Desenvolvimento dum reactor fotocatalítico para despoluição de águas baseado na tecnologia de filmes finos (CC-CVD)
Valentin Besserguenev
(Departamento de Física - Universidade do Algarve)
Hora – 17 horas
Data – 2 de Junho de 2005 (quinta-feira)
Local - Luís António Verney, Anf. 1
Resumo:
Laboratório de Ciência dos Materiais (LCM) na Universidade do Algarve, objectivos científicos, projectos e colaborações; Uso de Compostos Complexos para o Método de Deposição Química de Vapores (CC-CVD); Exemplos dos materiais, preparados pelo método CC-CVD; Dióxido do titânio (TiO2), método de deposição de filmes finos de TiO2. Purificação de água por reacção fotocatalítica; Exemplos de reactores fotocatalíticos; Desenvolvimento de um protótipo de reactor fotocatalítico para despoluição de aguas; Alguns pormenores da utilização de filmes finos para os reactores fotocatalíticos.
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