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Desenvolvimento dum reactor fotocatalítico para despoluição de águas baseado na tecnologia de filmes finos (CC-CVD)
Quinta-feira, 02 Junho 2005por  Este endereço de e-mail está protegido de spam bots, pelo que necessita do Javascript activado para o visualizar Hits : 1701
Desenvolvimento dum reactor fotocatalítico para despoluição de águas baseado na tecnologia de filmes finos (CC-CVD) 

Valentin Besserguenev


(Departamento de Física - Universidade do Algarve)


Hora – 17 horas

Data – 2 de Junho de 2005 (quinta-feira)

Local - Luís António Verney, Anf. 1


Resumo:

Laboratório de Ciência dos Materiais (LCM) na Universidade do Algarve, objectivos científicos, projectos e colaborações; Uso de Compostos Complexos para o Método de Deposição Química de Vapores (CC-CVD); Exemplos dos materiais, preparados pelo método CC-CVD; Dióxido do titânio (TiO2), método de deposição de filmes finos de TiO2. Purificação de água por reacção fotocatalítica; Exemplos de reactores fotocatalíticos; Desenvolvimento de um protótipo de reactor fotocatalítico para despoluição de aguas; Alguns pormenores da utilização de filmes finos para os reactores fotocatalíticos.
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